Holzapfel B., Huhne R., Liu Z.Y., Cai C.B., Zhao R., Lu Y.M., Fan F., Liu Z.J., Bai C.Y.
Ключевые слова: HTS, coated conductors, buffer layers, films epitaxial, PLD process, RABITS process, fabrication, substrate Ni-W, seed layers, magnetron sputtering, barriers, critical caracteristics, current-voltage characteristics, REBCO
Physica C, 2013, v.485, N 1, p.15-19
Полный текст на Sci-Hub
Дополнительная информация
© Copyright 2006-2012. Использование материалов сайта возможно только с обязательной ссылкой на сайт.Свои замечания и пожелания вы можете направлять по адресу perst@isssph.kiae.ruТехническая поддержка Alexey, дизайн Teodor.